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PVD धूम
| आइटम नंबर : | ST21 |
प्रदायक विवरण
देश
: ताइवान
शहर
: HsinChu
पता
: No.16, Ln.727, Sec.2, Yen-ping Road
TEL: +886-03-5304953
Fax
: +886-03-5362817
ऑनलाइन शोरूम
:
39 उत्पाद
एनआईवी लक्ष्य
वर्तमान आविष्कार की एक sputtering लक्ष्य उच्च पवित्रता नायब के होते हैं. यह कहा कि sputtering लक्ष्य में अशुद्धता तत्व की राशि को कम वांछनीय है. वर्तमान आविष्कार एक अशुद्धता एक नायब फिल्म की विशेषताओं पर विशेष रूप से प्रभावित तत्व वर्तमान आविष्कार के एक नायब लक्ष्य के साथ जमा पाया जाता है. ऊपर निष्कर्ष के आधार पर, एक विशेष तत्व की राशि कम है और अशुद्धता तत्व की राशि का फैलाव कम दबा दिया है.
अनुकूलन विनिर्देश
विशिष्टता:
आवेदन: फिल्म की रक्षा
वर्तमान आविष्कार की एक sputtering लक्ष्य उच्च पवित्रता नायब के होते हैं. यह कहा कि sputtering लक्ष्य में अशुद्धता तत्व की राशि को कम वांछनीय है. वर्तमान आविष्कार एक अशुद्धता एक नायब फिल्म की विशेषताओं पर विशेष रूप से प्रभावित तत्व वर्तमान आविष्कार के एक नायब लक्ष्य के साथ जमा पाया जाता है. ऊपर निष्कर्ष के आधार पर, एक विशेष तत्व की राशि कम है और अशुद्धता तत्व की राशि का फैलाव कम दबा दिया है.
अनुकूलन विनिर्देश
विशिष्टता:
आवेदन: फिल्म की रक्षा