Русско
English
中文繁體
Deutsch
Español
Português
Français
Türk
Italiano
Nederlands
हिन्दी
Bahasa Indonesia
Tiếng Việt
Катушка зажигания 2017-03-27 07:33:08
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Катушка зажигания 2017-03-27 07:32:54
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Катушка зажигания 2017-03-27 07:32:41
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Катушка зажигания 2017-03-27 07:32:28
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Катушка зажигания 2017-03-27 07:32:16
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения кривошина 2017-03-27 07:28:30
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения кривошина 2017-03-27 07:29:09
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения камшафта 2017-03-27 07:31:36
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения камшафта 2017-03-27 07:31:22
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения камшафта 2017-03-27 07:31:10
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Датчик положения камшафта 2017-03-27 07:30:52
Больше деталей угождают свяжутся мы, вы.
Цель Cr 2012-11-07 03:00:46
Цель Cu Спецификация Customization Очищенность: 99.95% Плотность: 8.92g/cm3 Точка плавления:1084°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection, пленка Conductive Нашей целью должна быть в ...
Sputter покрывать 2012-11-07 03:00:36
Спецификация Customization Мы можем изготовить наши цели к более плотно спецификациям для экстренной обязанности изготовления. Очищенность: 99.99% Плотность: 19.3g/cm3 Точка плавления:1064°C При ...
Цель ZnO 2012-11-07 03:00:29
Спецификация Customization Очищенность: 99.999% Плотность: 2.7g/cm3 Точка плавления:660°C Применение: Украшенная пленка, пленка Reflection Мы поручены к удолетворению потребностей клиента 100%. ...
Цель Ta 2012-11-07 03:00:22
Цель SiAl Материалы имеющиеся в очищенностях колебаясь от 99.9% до 99.9999% и имеющиеся для всего – систем sputtering круглого, прямоугольного, S-Gun, Delta, и Ring. Нестандартные конструкции так ...
Материал Sputtering 2012-11-07 02:59:48
Цель Zr Использовано для обрабатывать диски молибдена, и фольг. Они использованы в высокотемпературной конструкции печи вакуума и водопод-атмосферы Пакет: Деревянный случай с доской пены Специф ...
Материалы цели 2012-11-07 03:00:00
Цель ZnS Цели Sputtering произведены для пользы в sputtering драгоценныа металлы и магнитные материалов, таким образом увеличивая использование цели. Через конструкцию инженерства, увеличенный п ...
Материалы Sputtering 2012-11-07 02:59:36
Мы используем разнообразие специализированные метода обработки such as горячий отжимать, горячий изостатический отжимать (HIP), холодный изостатический отжимать (CIP), плавить вакуума индукции, и ...
Цель AlN 2012-11-07 02:59:27
Цель ZnAl От стандартных, одиночных материалов элемента к смесям таможни, малой multi-плитки циркуляра и шагнутых конструкций, товарныйа сорт к ультравысоким очищенностям, Angstrom Sciences обесп ...
Цели Sputter 2012-11-07 02:59:12
Цель Y2O3 Потому что весь из наших сплавов сделаны в доме в одном из нашего много вакуумируют системы индукции, мы могут сформулировать точно сплав, котор вы для вашего физического требования к н ...
Sputter PVD 2012-11-07 02:58:44
Цель TiW Мы обеспечиваем всестороннюю поддержку для процессов sputtering, включая спасение и рециркулировать утиля и спасение драгоценныа металлы на частях. Спецификация: Спецификация Customizat ...
PVD Sputter 2012-11-07 02:57:13
Цель TiW Состав сплава и добавленные окиси были более осложненными чем раньше из-за увеличенной емкости трудного диска. С нашей технологией, по возможности изготовить цели которые приспосабливают ...
PVD Sputtering 2012-11-07 02:57:03
Спецификация Customization Цели с точно и равномерно распределенные окиси имеют немногие частицы включает стабилизированный sputtering. Спецификация: Применение: Отснятый материал Очищенность: 9 ...
Цель PVD 2012-11-07 02:56:57
Спецификация Customization Наша компания изготовляет весьма высокосортные цели sputtering содержа окиси для высокомарочных средств записи путем использовать уникально производственный прочесс поз ...
Цели PVD 2012-11-07 02:56:50
Цель SiO2 Как leading компания материалов sputtering, наша компания будет продолжаться соотвествовать или превысить ожиданностям нашего клиента в поле все больше и больше изощренной тонкопленочно ...
АЗО цель 2012-11-07 02:56:36
Цель кремния Материалы драгоценныа металлы тонкопленочные изготовленные с нашей технологией спекать высоки сосчитаны в индустрии электроники, определенно в индустриях полупроводника и магнитного ...
Цель ITO 2012-11-07 02:56:29
Цель Sputtering Материал: Титан (Ti), Tungsten (w), Molybdenum (Mo), Tantalum (Ta), Niobium (N B), Silver (Ag), Silicon (кремний), Aluminum (Al) Chromium (Cr), цель sputtering Oxide, цель sputteri ...
Тонкопленочно Sputter 2012-11-07 02:56:23
︰ упаковки вакуум ︰ спецификации высокий чисто металл Magnesium, окись Magnesium, фторид Magnesium ︰ преимущества очень competitory цена и highquality с быстро временем пос ...
Тонкопленочный Sputtering 2012-11-07 02:56:14
Цель пинты Относительно других примесей чем Ta и кислород в цели sputtering присытствыющего вымысла, до приблизительного уровня общецелевого высокочистого материала металла, небольшое количество ...
Цель Ge 2012-11-07 02:56:07
Цель осмия Цель sputtering присытствыющего вымысла можно изготовить в following дорогах for instance. Спецификация Customization Спецификация: Очищенность: 99.99% Плотность: 22.661g/cm3 Применен ...