Nederlands
English
中文繁體
Русско
Deutsch
Español
Português
Français
Türk
Italiano
हिन्दी
Bahasa Indonesia
Tiếng Việt
De rol van de ontsteking 2017-03-27 07:32:54
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De rol van de ontsteking 2017-03-27 07:32:41
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De rol van de ontsteking 2017-03-27 07:32:28
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De rol van de ontsteking 2017-03-27 07:32:16
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de trapas 2017-03-27 07:28:30
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de trapas 2017-03-27 07:29:09
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de nokkenas 2017-03-27 07:31:36
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de nokkenas 2017-03-27 07:31:22
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de nokkenas 2017-03-27 07:31:10
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
De positiesensor van de nokkenas 2017-03-27 07:30:52
Meer details tevreden om ons te contacteren, danken u.
Het Doel van Cr 2012-11-07 03:00:46
Het doel van Cu De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.95% Dichtheid: 8.92g/cm3 Smeltpunt:1084°C Toepassing: Verfraaide film, Reflection film, film Conductive Ons doel is uw thin-fil ...
Sputter Deklaag 2012-11-07 03:00:36
De specificatie van de aanpassing Wij kunnen onze doelstellingen aan strakkere specificaties voor een extra vervaardigingslast vervaardigen. Zuiverheid: 99.99% Dichtheid: 19.3g/cm3 Smeltpunt:106 ...
Het Doel van ZnO 2012-11-07 03:00:29
De specificatie van de aanpassing Zuiverheid: 99.999% Dichtheid: 2.7g/cm3 Smeltpunt:660°C Toepassing: Verfraaide film, film Reflection Wij zijn geëngageerd aan 100% klantentevredenheid. Onze ver ...
Het Doel van Ta 2012-11-07 03:00:22
Het doel van SiAl De materialen zijn beschikbaar in zuiverheid die zich van 99.9% uitstrekken tot 99.9999% en zijn beschikbaar voor al sputterende systemen– ronde, rechthoekig, s-Gun, Delta, en R ...
Sputterend Materiaal 2012-11-07 02:59:48
Het doel van Zr Gebruikt voor de schijven van het verwerkingsmolybdeen, en folies. Zij worden gebruikt in vacuüm en waterstof-atmosfeer ovenbouw op hoge temperatuur Pakket: Houten geval met schu ...
De Materialen van het doel 2012-11-07 03:00:00
Het doel van ZnS De sputterende doelstellingen worden veroorzaakt voor gebruik in het sputteren van kostbare metalen en magnetische materialen, daardoor verhogend doelgebruik. Door techniekontwe ...
Het Sputteren van materialen 2012-11-07 02:59:36
Wij gebruiken een verscheidenheid van gespecialiseerde verwerkingstechnieken zoals het hete drukken van, het hete isostatic drukken van (HIP), het koude isostatic drukken van (CIP), inductie het v ...
Het Doel van AlN 2012-11-07 02:59:27
Het doel van ZnAl Van standaard, enige elementenmaterialen aan douanesamenstellingen, kleine cirkel multi-tegel en gestapte bouw, commerciële rang aan ultrahoge zuiverheid, verstrekt Angstrom Sci ...
De doelstellingen sputteren 2012-11-07 02:59:12
Y2O3 doel Omdat elk van onze legeringen binnenshuis in één van onze vele vacuüminductiesystemen worden gemaakt, kunnen wij de nauwkeurige legering formuleren u voor uw fysiek depositovereiste nod ...
Sputter PVD 2012-11-07 02:58:44
Het doel van TiW Wij verlenen uitvoerige steun voor het sputteren van processen, met inbegrip van terugwinning en recycling van schroot en terugwinning van kostbare metalen op delen. Specificati ...
PVD sputtert 2012-11-07 02:57:13
Het doel van TiW De legeringssamenstelling en de toegevoegde oxyden zijn ingewikkelder dan voordien wegens verbeterde harde schijfcapaciteit geworden. Met onze technologie, is het mogelijk om doe ...
Het Sputteren PVD 2012-11-07 02:57:03
De specificatie van de aanpassing De doelstellingen met fijn en uniform verdeelde oxyden hebben minder deeltjes wat het stabiele sputteren toelaat. Specificatie: Toepassing: Het materiaal van de ...
Doel PVD 2012-11-07 02:56:57
De specificatie van de aanpassing Ons bedrijf vervaardigt uiterst hoogwaardige sputterende doelstellingen die oxyden voor de opnamemedia van uitstekende kwaliteit bevatten door een unieke product ...
Doelstellingen PVD 2012-11-07 02:56:50
SiO2 doel Als belangrijk bedrijf van het sputteren van materialen, zal ons bedrijf de verwachtingen van onze klant op het gebied van meer en meer verfijnde dunne filmelektronika ontmoeten of blij ...
AZO Doel 2012-11-07 02:56:36
Het doel van Si Worden de materialen van de kostbaar metaal dunne film die met onze het sinteren technologie worden vervaardigd hoogst beschouwd in de elektronische industrie, in het bijzonder in ...
Doel ITO 2012-11-07 02:56:29
Sputterend Doel Materiaal: Titanium (Ti), Wolfram (w), Molybdeen (Mo), Tantalium (Ta), Niobium (Nb), Zilver (Ag), Silicium (Si), het Chromium van het Aluminium (Al) (Cr), het sputterende doel van ...
De dunne Film sputtert 2012-11-07 02:56:23
Verpakking ︰ vacuüm specificatie ︰ hoog zuiver Magnesium metaal, Magnesium oxyde, fluoride Magnesium voordeel ︰ zeer competitory prijs en hoogstaand met snel levertijd en d ...
Het Sputteren van de dunne Film 2012-11-07 02:56:14
Het doel van PT Betreffende andere onzuiverheden dan Ta en zuurstof in het sputterende doel van de onderhavige uitvinding, tot een benaderend niveau van materiaal het voor algemeen gebruik van he ...
Het Doel van Duitsland 2012-11-07 02:56:07
Os doel Het sputterende doel van de onderhavige uitvinding kan op de volgende bijvoorbeeld manieren worden vervaardigd. De specificatie van de aanpassing Specificatie: Zuiverheid: 99.99% Dichthe ...
Doelstellingen CIGS 2012-11-07 02:55:51
Het doel van NiV Een sputterend doel van de onderhavige uitvinding bestaat uit hoge zuiverheid Nb. Men zegt dat een hoeveelheid onzuiverheidselement in het sputterende doel over het algemeen wens ...