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光学镀膜材料
ESTRONG OPTECH CO.,LTD.
Product Catalog » 光学镀膜材料
合计 6 产品类别 光学镀膜材料
展示: 30 项目

  • 氧化铝
    氧化铝
    Substanc:氧化铝 配方:氧化铝 产品形态:颗粒剂2.5〜5毫米 折射率(nd):1.64 / 550nm处 传输范围:200〜500nm的 蒸发温度:2000〜2200℃ 典型来源:E Appliaction:氧化铝是一种中等指数物质文明的哪个是适合于通过红外光谱在紫外线应用。它可以在抗反射涂层,绝缘镜,多层的过滤器使用,干扰cotings保护涂层等 E:选民束胶
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    2016-10-21 02:56:11
  • 氧化铟锡
    氧化铟锡
    Substanc:氧化铟锡 配方:ITO 产品形态:片剂 折射率(nd):1.85 / 500nm的 传输范围:400〜1500nm 蒸发温度:〜1450℃ 典型来源:E Appliaction:铟锡氧化物可以被用作透明导电膜,抗静电膜,太阳能涂层。 E:选民束胶
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    2016-10-21 02:56:01
  • 二氧化硅
    二氧化硅
    Substanc:二氧化硅 公式为:SiO2 产品形态:颗粒戒指 折射率(nd):1.46 / 500nm的 传输范围:200〜2500纳米 蒸发温度:1600〜2200℃ 典型来源:E Appliaction:二氧化硅,一种低折射率材料制成的,比与其它结晶化合物使用更广泛。 SiO 2膜的许多优秀properies已经注意到,如它在可见光和紫外光,薄膜和优良的环境稳定性良好性能硬度高,等 ...
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    2016-10-21 02:55:16
  • 五氧化二钽
    五氧化二钽
    Substanc:氧化钽 计算公式:的Ta2O5 产品形态:1克片 折射率(nd):2.3 / 500nm的 传输范围:400〜7000nm 蒸发温度:1700〜2000℃ 典型来源:E Appliaction:五氧化二钽,适合用很少吸收涂层中的近UV到红外区域的优良的高指数面料。在过去的几年里。的Ta2O5 coation材料经历在其中组合使用二氧化硅层的DWDM涂层极大成功的应用。 E ...
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    2016-10-21 02:55:01
  • 氟化镁
    氟化镁
    Substanc:氟化镁 配方:氟化镁 产品形态:颗粒剂1〜2.5毫米 折射率(nd):1.38 / 220纳米 传输范围:153〜7000nm 蒸发温度:1300〜1600℃ 典型来源:钨,钼,钽,E Appliaction:Mangesium氟化物是公知为一种具有低折射率的最常见coation材料。它可以在ARC多层,分束,光absorping和偏振,保护涂层从紫外到光谱的近红外区域中 ...
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    2016-10-21 02:54:49
  • 三氧化二钛
    三氧化二钛
    Substanc:三氧化二钛 配方:Ti3O5 产品形态:0.5〜4mm的颗粒 折射率(nd):2.35 / 500nm的 传输范围:400〜2000nm的 蒸发温度:2400〜2450℃ 典型来源:E Appliaction:光学镀膜主要采用的光学元件,包括透镜,棱镜,窗以及各种光楔和光束分裂镜等的表面上。 Ti3O5可以产生对高表面质量的光学,这意味着是可能导致标准和正确的proced ...
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    2016-10-21 02:54:31
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